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高濃度粒徑分析儀FPAR-1000後續機種 → nanoSAQLA
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高濃度粒徑分析
~從稀薄到濃厚溶液粒徑量測~
產品特色
低濃度到高濃度溶液的廣域量測範圍，高速、高精度的粒徑、粒徑分佈量測能力
藉由觀察微粒子特有的分散、凝集過程等功能，最適合研究、品管等廣泛用途
採用新開發的探測器，可高精度量測高濃度溶液中的粒徑
樣品溫控、超音波洗淨等所有必要功能均內建於小巧的A3尺寸
量測範圍
粒徑量測範圍 3 nm ~ 5000 nm1 nm ~ 5000 nm (高感度型)
Cumulant 平均粒徑 / Histogram 平均粒徑 (D50) 分佈解析法 CONTIN
MARQUARDT
NNLS
CUMULANT 適用濃度範圍(204nm之標準乳膠時 ) 0.001 ~ 10 %
高濃度探測器(標準配備)：0.01 ~ 10 %
低濃度探測器(選配)：0.001 ~ 0.01 %
規格樣式
| FPAR-1000 | |
| 光源 | 半導體雷射 |
| 感光元件 | 光電子倍增管（光子計數法） |
| 樣品溫度範圍 | 10 ~ 70℃ |
| 溫控方式 | 電子制冷、加溫器 |
| 探測器洗淨方式 | 超音波洗淨 |
| 電源規格 | AC100V ± 10%50 / 60Hz 300VA |
| 尺寸 | 320（W） × 507（H） × 284（D） mm |
| 重量 | 約22kg |
應用範圍
色料等相關工業所使用的顏料、墨水等之分散、凝聚控制及粒徑管理 精密陶瓷Slurry之分散、凝聚控制及分散劑效果 半導體領域研磨微粒的粒徑管理 高分子、化學工業領域乳膠、乳膠液之分散、凝聚控制及粒徑管理 醫藥品、食品等乳膠液類之分散、凝聚控制以及微脂體等的粒徑管理 光觸媒（氧化鈦）粒子的分散狀態管理量測範例
有機顏料 – 印表機用墨水
無機微粒 – CMP slurry
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