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【關鍵突破:2024先進材料精準粒子分析研討會】


202405粒徑研討會1
 
本次研討會主題為「2024先進材料精準粒子分析研討會」,超過半世紀粒徑分析開發經驗的大塚電子株式會社的日本量測技術負責人分享最新的應用與量測上的knowhow,各種意想不到的界達電位、粒徑大小、表面電位等在各領域的關鍵突破。 此外,工研院背景的新銳公司邑流微測分享包括半導體及生醫製藥等熱門領域,聚焦在潔淨、智慧製造等關鍵字,引領ESG最新潮流。。
【新竹場】2024/05/21 13:00~
【台中場】2024/05/22 13:00~
【高雄場】2024/05/23 13:00~
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FE-5000S

橢圓偏光量測儀FE-5000S

FE-5000S由於是採用2次CCD檢出器及獨創之光學系統,與以往所不同的是,目前採廣帶區域(300~800nm)之分光Ellipsometry,能簡單且高速高精度測量。
本系統之入射角度能自動SCAN(採用正弦桿自動驅動方式)及分析SCAN DATA、更能做高精度之分析。薄膜材料之多層薄膜之膜厚分析、折射率分析、薄膜界面、結晶混合等等,都能被分析。本系統之構成,可從研究單位到品質管理單位,因此,適用範圍極為廣泛。

量測項目

  • 多層膜解析
  • 絕對反射率分析
  • 光學常數nk值(n:折射率、k:消光係數)

產品資訊

橢圓偏光儀特長

◉nm薄膜之膜厚測量:以非接觸非破壞性測量多層膜厚
◉材料表面的光學係數(n,k)之測量:在膜厚管理、膜質管理上,提供實用之情報
 膜厚,光學係數(n:折射率,k:消衰係數), Ellipso Parameter(Tanψ及cosΔ)]
◉採用400ch以上的光譜橢圓法、能迅速地測量Spectrum Spectrum point數極多,能很正確的測量急峻變化之Ellipso Spectrum
◉由於反射角度為可變(正弦桿 (Sine Bar) 自動驅動方式),更能充份對應出高精度分析
◉可對應至客戶端依分析之材料物性和多層膜厚等之高度評價工程:
 依“有效媒質近似”(EMA),能測量複素折射率之波長分散値、混合結晶之混合比、界面之厚度等等
 依照各種光學係數函數和膜Model之分析,能充份對應薄膜界面等之材料物性評價工程

橢圓偏光儀量測項目

橢圓參數量測(tanψ、cosΔ)
光學常數分析(n、k)
多層膜厚分析

橢圓偏光儀和顯微分光膜厚計OPTM的功能比較

FE5000 產品資訊 比較 W940
 

📖【光學膜厚量測】『顯微分光法』與『橢圓偏光法』有什麼不同?→

量測原理

橢圓偏光法

橢圓偏光法的基本原理是將光入射於物質,藉由物質之介電性質所造成的反射光偏振變化,以取得材料光學特性與表面覆膜之厚度。一般而言,光照射在物質時,入射光與反射光的偏振狀態不會相同。藉由此偏振狀態的差異,可測得反射表面的狀態。對入射光與反射光所形成的面,平行之光波振幅稱之為P偏振光,垂直之光波振幅稱之為S偏振光。
一般未帶有偏振特性的光,在通過45度傾斜的偏光片後,P與S偏振光的相位會相同,強度也會成為1:1的直線偏振光。這道直線偏振光在照射物質後所產生的反射光,會與照射前的P與S偏振光間產生相位差Δ。由於照射在物體表面的P與S偏振光的反射率相異,P與S偏振光的反射光強度亦不會相同。將P與S偏振光的相位差値代入△,反射振幅比為tanψ,可參考如下的公式與。
FE5000S原理 EQ and FIG W470
 

規格樣式

  FE-5000S
樣品對應尺寸 100*100mm
量測方式 偏光片元件旋轉方式
入射/反射角度範圍 45-90度
入射反射角度驅動方式 反射角度可自動變更
波長量測範圍 300-800nm
分光元件 Polu chrometer
尺寸 650(H)*400(D)*560(W)mm
重量 約50公斤
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