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橢圓偏光儀FE-5000

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FE-5000

高速橢圓偏譜儀
最適用於膜厚、膜質管理

產品特色

橢圓偏振術量測紫外光到可見光波長橢圓參數

0.1nm以上奈米級光學薄膜厚度量測

400波長以上多通道分光的橢偏儀,高速量測橢圓偏光光譜

可自由變換反射量測角度,得到更詳細的薄膜解析數據

非線性最小平方法解析多層膜、光學常數

量測項目

量測橢圓參數(tanΨ、cosΔ)

解析光學常數(n:折射率、k:消光係數)

多層膜厚解析

規格樣式

FE-5000
膜厚量測範圍 0.1 nm ~
波長量測範圍 250 ~ 800nm(可選擇350~1000nm)
感光元件 光電二極管陣列512ch(電子制冷)
入射/
反射角度範圍
45 ~ 90°
電源規格 AC1500VA(全自動型)
尺寸 1300(H) × 900(D) × 1750(W)mm
重量 約350kg(全自動型)

量測範例

非線性最小平方法比對NIST標準樣品(SiO2)膜厚精度確認

VLSI標準樣品SiO2薄膜 tanΨ光譜 VLSI標準樣品SiO2薄膜 cosΔ光譜

上圖為量測NIST標準樣品SiO2薄膜tanΨ&cosΔ光譜圖。
根據NIST所提出報告書中記載,此標準樣品膜厚值為96.9nm。
使用橢圓偏光儀 FE-5000所測得膜厚值為96.9nm,結果與標準樣品膜厚值幾乎一致。

※ NIST標準樣品:(VLSI Standard Inc. FTS4-1000)。
※ 標準樣品膜厚值為使用NIST所認證之橢偏儀的量測結果。

應用範圍

半導體晶圓:電晶體閘極(Gate)氧化薄膜、氮化膜,電極材料等・SiO2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al2O2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN・光阻劑光學常數(波長色散)

化合物半導體:AlxGa(1-x)As多層膜、非結晶矽

平面顯示器:配向膜・電漿顯示器用ITO、MgO等

新材料:類鑽碳薄膜(DLC膜)、超傳導性薄膜、磁頭薄膜

光學薄膜:TiO2、SiO2、多層膜、抗反射膜、反射膜

平版印刷領域:g 線(436nm)、h 線(405nm)、i 線(365nm)、KrF(248nm)等於各波長的n、k值評價