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橢圓偏光儀FE-5000

高速橢圓偏譜儀
最適用於膜厚、膜質管理
產品特色
橢圓偏振術量測紫外光到可見光波長橢圓參數
0.1nm以上奈米級光學薄膜厚度量測
400波長以上多通道分光的橢偏儀,高速量測橢圓偏光光譜
可自由變換反射量測角度,得到更詳細的薄膜解析數據
非線性最小平方法解析多層膜、光學常數
規格樣式
FE-5000 | |
膜厚量測範圍 | 0.1 nm ~ |
波長量測範圍 | 250 ~ 800nm(可選擇350~1000nm) |
感光元件 | 光電二極管陣列512ch(電子制冷) |
入射/ 反射角度範圍 |
45 ~ 90° |
電源規格 | AC1500VA(全自動型) |
尺寸 | 1300(H) × 900(D) × 1750(W)mm |
重量 | 約350kg(全自動型) |
量測範例
非線性最小平方法比對NIST標準樣品(SiO2)膜厚精度確認


上圖為量測NIST標準樣品SiO2薄膜tanΨ&cosΔ光譜圖。
根據NIST所提出報告書中記載,此標準樣品膜厚值為96.9nm。
使用橢圓偏光儀 FE-5000所測得膜厚值為96.9nm,結果與標準樣品膜厚值幾乎一致。
※ NIST標準樣品:(VLSI Standard Inc. FTS4-1000)。
※ 標準樣品膜厚值為使用NIST所認證之橢偏儀的量測結果。
應用範圍
半導體晶圓:電晶體閘極(Gate)氧化薄膜、氮化膜,電極材料等・SiO2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al2O2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN・光阻劑光學常數(波長色散)
化合物半導體:AlxGa(1-x)As多層膜、非結晶矽
平面顯示器:配向膜・電漿顯示器用ITO、MgO等
新材料:類鑽碳薄膜(DLC膜)、超傳導性薄膜、磁頭薄膜
光學薄膜:TiO2、SiO2、多層膜、抗反射膜、反射膜
平版印刷領域:g 線(436nm)、h 線(405nm)、i 線(365nm)、KrF(248nm)等於各波長的n、k值評價