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反射式膜厚量測儀FE-3000

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FE-3000

光干涉式膜厚計
~薄膜到厚膜的完美對應~

產品特色

非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計

高精度、高再現性量測紫外到近紅外波長反射率光譜,分析多層薄膜厚度、光學常數
(n:折射率、k:消光係數)

寬闊的波長量測範圍。(190nm ~ 1600nm)

薄膜到厚膜的膜厚量測範圍。(1nm ~ 1mm)

對應顯微鏡下的微距量測口徑(最小spot約5μm)

量測項目

絕對反射率分析

多層膜解析

光學常數(n:折射率、k:消光係數)

規格樣式

標準型 厚膜型 超厚膜型
量測波長範圍 190 ~ 760 nm 230 ~ 800 nm 330 ~ 1100 nm 900 ~ 1600 nm 1490 ~ 1590 nm
對應膜厚範圍 1nm ~ 40μm 1μm ~ 240μm 80μm ~ 1mm
感光元件 CCD InGaAs
光源規格 D2(紫外光)、I2(可見光)、D2+I2(紫外-可見光)
電源規格 AC100V±10V 750VA(自動樣品台規格)
尺寸 481(H)×770(D)×714(W)mm(自動樣品台規格之主體部分)
重量 約96kg(自動樣品台規格之主體部分)

量測範例

玻璃上二氧化鈦膜厚、膜質分析

TiO2/Glass反射率光譜分析 TiO2複數折射率分析 (n:折射率、k:消光係數)

應用範圍

FPD:LCD、TFT、OLED(有機EL)

半導體、複合半導體:矽半導體、半導體雷射、強誘電、介電常數材料

資料儲存:DVD、磁頭薄膜、磁性材料

光學材料:濾光片、抗反射膜

平面顯示器:液晶顯示器、薄膜電晶體、OLED

薄膜:AR膜

其它:建築用材料