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反射式膜厚量測儀FE-3000後續機種 → OPTM series
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光干涉式膜厚計
～薄膜到厚膜的完美對應～
產品特色
非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計
高精度、高再現性量測紫外到近紅外波長反射率光譜，分析多層薄膜厚度、光學常數
（n:折射率、k:消光係數）
寬闊的波長量測範圍。（190nm ~ 1600nm）
薄膜到厚膜的膜厚量測範圍。（1nm ~ 1mm）
對應顯微鏡下的微距量測口徑(最小spot約5μm)
量測項目
絕對反射率分析
多層膜解析
光學常數（n:折射率、k:消光係數）
規格樣式
| 標準型 | 厚膜型 | 超厚膜型 | |||
| 量測波長範圍 | 190 ~ 760 nm | 230 ~ 800 nm | 330 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm | 1490 ~ 1590 nm |
| 對應膜厚範圍 | 1nm ~ 40μm | 1μm ~ 240μm | 80μm ~ 1mm | ||
| 感光元件 | CCD | InGaAs | |||
| 光源規格 | D2（紫外光）、I2（可見光）、D2+I2（紫外-可見光） | ||||
| 電源規格 | AC100V±10V 750VA（自動樣品台規格） | ||||
| 尺寸 | 481（H）×770（D）×714（W）mm（自動樣品台規格之主體部分） | ||||
| 重量 | 約96kg（自動樣品台規格之主體部分） | ||||
量測範例
玻璃上二氧化鈦膜厚、膜質分析
應用範圍
FPD：LCD、TFT、OLED(有機EL)
半導體、複合半導體：矽半導體、半導體雷射、強誘電、介電常數材料
資料儲存：DVD、磁頭薄膜、磁性材料
光學材料：濾光片、抗反射膜
平面顯示器：液晶顯示器、薄膜電晶體、OLED
薄膜：AR膜
其它：建築用材料
