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膜厚量測儀FE-300

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FE-300

"非接觸式"光學量測!
薄膜到厚膜10nm ~ 1.5mm

產品特色

薄膜到厚膜的量測範圍、UV~NIR光譜分析

高性能的低價光學薄膜量測儀

藉由絕對反射率光譜分析膜厚

完整繼承FE-3000高端機種90%的強大功能

無複雜設定,操作簡單,短時間內即可上手

線性最小平方法解析光學常數(n:折射率、k:消光係數)

量測項目

絕對反射率光譜解析

多層膜解析(5層)

光學常數解析(n:折射率、k:消光係數)

規格樣式

FE-300V FE-300UV FE-300NIR※1
對應膜厚 標準型 薄膜型 厚膜型 超厚膜型
樣品尺寸 最大8吋晶圓(厚度5mm)
膜厚範圍 100nm ~ 40μm 10nm ~ 20μm 3μm ~ 300μm 15μm ~ 1.5mm
波長範圍 450nm ~ 780nm 300nm ~ 800nm 900nm ~ 1600nm 1470nm ~ 1600nm
膜厚精度 ±0.2nm以內※2 -
重複再現性(2σ) ±0.1nm以內※3 -
量測時間 0.1s ~ 10s以內
量測口徑 約φ3mm
光源 鹵素燈 UV用D2燈 鹵素燈 鹵素燈
通訊界面 USB
尺寸重量 280(W)× 570(D)×350(H)mm,約24kg
軟體功能
標準功能 波峰波谷解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乘法解析
選配功能 材料分析軟體、薄膜模型解析、標準片解析

※1請與本公司聯絡連絡我們

※2比對VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si),範圍值同保證書所記載

※3量測VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si)同一點位時之重複再現性。(擴充係數2.1)

量測範例

PET基板上的DLC膜

PET基板上的DLC膜

Si基板上的SiNx

Si基板上的SiNx

應用範圍

半導體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)

光學薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)