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膜厚量測儀FE-300

"非接觸式"光學量測!
薄膜到厚膜10nm ~ 1.5mm
產品特色
薄膜到厚膜的量測範圍、UV~NIR光譜分析
高性能的低價光學薄膜量測儀
藉由絕對反射率光譜分析膜厚
完整繼承FE-3000高端機種90%的強大功能
無複雜設定,操作簡單,短時間內即可上手
線性最小平方法解析光學常數(n:折射率、k:消光係數)
量測項目
絕對反射率光譜解析
多層膜解析(5層)
光學常數解析(n:折射率、k:消光係數)
規格樣式
FE-300V | FE-300UV | FE-300NIR※1 | ||
對應膜厚 | 標準型 | 薄膜型 | 厚膜型 | 超厚膜型 |
樣品尺寸 | 最大8吋晶圓(厚度5mm) | |||
膜厚範圍 | 100nm ~ 40μm | 10nm ~ 20μm | 3μm ~ 300μm | 15μm ~ 1.5mm |
波長範圍 | 450nm ~ 780nm | 300nm ~ 800nm | 900nm ~ 1600nm | 1470nm ~ 1600nm |
膜厚精度 | ±0.2nm以內※2 | – | ||
重複再現性(2σ) | ±0.1nm以內※3 | – | ||
量測時間 | 0.1s ~ 10s以內 | |||
量測口徑 | 約φ3mm | |||
光源 | 鹵素燈 | UV用D2燈 | 鹵素燈 | 鹵素燈 |
通訊界面 | USB | |||
尺寸重量 | 280(W)× 570(D)×350(H)mm,約24kg | |||
軟體功能 | ||||
標準功能 | 波峰波谷解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乘法解析 | |||
選配功能 | 材料分析軟體、薄膜模型解析、標準片解析 |
※1請與本公司聯絡連絡我們
※2比對VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si),範圍值同保證書所記載
※3量測VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si)同一點位時之重複再現性。(擴充係數2.1)
量測範例
PET基板上的DLC膜

Si基板上的SiNx

應用範圍
半導體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)
光學薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)