- HOME
- 產品總覽
- 材料膜厚
- 膜厚量測儀 FE-300
膜厚量測儀FE-300
- 產品特色
- 量測項目
- 規格樣式
- 量測範例
- 應用範圍
＂非接觸式＂光學量測！
薄膜到厚膜10nm ～ 1.5mm
產品特色
薄膜到厚膜的量測範圍、UV~NIR光譜分析
高性能的低價光學薄膜量測儀
藉由絕對反射率光譜分析膜厚
完整繼承FE-3000高端機種90%的強大功能
無複雜設定，操作簡單，短時間內即可上手
線性最小平方法解析光學常數（n:折射率、k:消光係數）
量測項目
絕對反射率光譜解析
多層膜解析（5層）
光學常數解析（n:折射率、k:消光係數）
規格樣式
| FE-300V | FE-300UV | FE-300NIR※1 | ||
| 對應膜厚 | 標準型 | 薄膜型 | 厚膜型 | 超厚膜型 |
| 樣品尺寸 | 最大8吋晶圓（厚度5mm） | |||
| 膜厚範圍 | 100nm ~ 40μm | 10nm ~ 20μm | 3μm ~ 300μm | 15μm ~ 1.5mm |
| 波長範圍 | 450nm ~ 780nm | 300nm ~ 800nm | 900nm ~ 1600nm | 1470nm ~ 1600nm |
| 膜厚精度 | ±0.2nm以內※2 | – | ||
| 重複再現性（2σ） | ±0.1nm以內※3 | – | ||
| 量測時間 | 0.1s ~ 10s以內 | |||
| 量測口徑 | 約φ3mm | |||
| 光源 | 鹵素燈 | UV用D2燈 | 鹵素燈 | 鹵素燈 |
| 通訊界面 | USB | |||
| 尺寸重量 | 280（W）× 570（D）×350（H）mm，約24kg | |||
| 軟體功能 | ||||
| 標準功能 | 波峰波谷解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乘法解析 | |||
| 選配功能 | 材料分析軟體、薄膜模型解析、標準片解析 | |||
※1請與本公司聯絡連絡我們
※2比對VLSI標準樣品（100nm SiO2/Si），範圍值同保證書所記載
※3量測VLSI標準樣品（100nm SiO2/Si）同一點位時之重複再現性。（擴充係數2.1）
量測範例
PET基板上的DLC膜
Si基板上的SiNx
應用範圍
半導體晶圓膜（光阻、SOI、SiO2等）
光學薄膜（OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等）
