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光阻層厚度
為進行光刻(Photolithography)塗佈的光阻層厚度若無法達到目標厚度，在曝光時會產生光阻層無法剝離而成為不良品。光干涉式膜厚量測儀以非接觸、非破壞、高精度的方式量測管理光阻層的厚度。
