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成膜後wafer面內膜厚分布

為了使氧化層充分發揮絕緣膜的功能,需要管理氧化層的厚度。OPTM使用非接觸、非破壞、高精度量測方法,進行膜厚管理。另外,使用晶圓厚度 & 膜厚線上量測設備也可進行自動化的膜厚量測。