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wafer表面電位

研磨後晶圓的洗淨,有時候會出現無法去除異物的情形。這時大多是因為異物是正電荷,而晶圓是帶負電荷相吸的原因而無法去除。此時可以藉由量測晶圓表面與異物(例如研磨粒子)兩者的界達電位來研究交互作用。